Caracterisation ICP
Materia Nova est un centre de recherche certifié ISO 9000 spécialisé dans le développement et l’étude des nouveaux matériaux. Issu de l’Université de Mons et de la Faculté
Polytechnique de Mons, il est un pôle reconnu dans le domaine des traitements de surfaces, des nanotechnologies et des polymères. Un ensemble complet de techniques d’analyse des surfaces est mis à la disposition des entreprises.
Déconvolution du carbone
L’XPS permet d’identifier et de quantifier les éléments présents à la surface d’un matériau sur une profondeur de 10 nm. Des informations sur l’environnement chimique de l’élément détecté comme le type de liaisons, l’état d’oxydation, la fonction chimique, etc… peuvent être obtenues par déconvolution des signaux.
Un système d’érosion de la surface par bombardement ionique permet de réaliser des profils de concentration sur une épaisseur de quelques centaines de nm. Ce dispositif permet l’analyse d’interfaces ou de défauts. Il est également possible de réaliser une cartographie chimique élémentaire de la surface avec une résolution de l’ordre de 10 microns. La technique est capable d’identifier et de localiser une anomalie dans un microsystème comme un circuit électronique.
Profil de diffusion de Na dans un film mince d'oxyde déposé sur verre 70
3
60
2.5
% at relatif
50
2
40
1.5
O1s
30
Si2p
1
Sn3d5
20
Zn2p3
0.5
Na1s axe second
10
0
0
0
200
400
600
800
1000
Temps de pulvérisation
1200
1400
1600
∆m= 0.02 uma
La spectrométrie de masse ToF-SIMS permet d’identifier les éléments et composés en extrême surface d’un matériau sur une profondeur de 1 nm. La résolution en masse des fragments est très élevée. Le ToF-SIMS permet la détection d’éléments sous forme de traces avec des concentrations de l’ordre du ppm.
∆
Le ToF-SIMS permet aussi la réalisation de profils sur des profondeurs de l’ordre du µm ainsi que de l’imagerie par contraste chimique avec une résolution latérale