Photolithographie

Shanghai, Chine Marco Antonio Sá São Paolo, Brésil Laurent Bourdeau Attilio Pisa Neto Mona Chamma Givaudan Trnka Food & Stills Zurich, Suisse Theo Allofs Photonica / Getty Images Conception et mise en page Latitudesign Nyon / Vaud, Suisse Photolithographie Scan Graphic snc Nyon / Vaud, Suisse Impression Courvoisier-Attinger Bienne / Berne, Suisse Le Rapport Annuel de Givaudan est édité en anglais, en allemand et en français Le Rapport Financier de Givaudan est édité en anglais Toutes les

BIBLIOGRAPHIE Etienne Lullin, Richard Hamilton. Druckgraphik und Multiples 1939-2002, Düsseldorf 2002, n° 79, page 122 Cette œuvre est une des rares épreuves signées par l’artiste 152 RICHARD HAMILTON né en 1922 The critic laughs, 1968 Photolithographie vernis, émail, collage et sérigraphie, épreuve signée et numérotée 103 /125. Edition Documenta Foundation 34 x 26 cm (l'image), 60 x 47 cm (la planche) 2 500 / 3 500 ¤ PROVENANCE Collection particulière, Londres BIBLIOGRAPHIE Etienne Lullin

&6 EG:B>UG: 8DCH>HI: Q 8GT:G A6 B6IG>8: E6G C6CD A>I=D: BTI=D9: 9>I: ^ H6CH B:B7G6C: _ :I A6 9:JL>UB: 8DC8:GC6CI AfJI>A>H6I>DC 9: B:B7G6C:H C6CD HIGJ8IJGT: 8DBB: B6IG>8: ^EGVI: Q 9TEDH:G _ II.2.1.1 (6CD A>I=D: sans B:B7G6C: II.2.1.1.1 Photolithographie optique conventionnelle &6 I:8=CDAD: 9: E=DIDA>I=D: :HI 8DCCJ: 96CH A: BDC9: 9: A6 B>8GDTA:8IGDC>FJ: EDJG GT6A>H:G 9:H B>8GDHIGJ8IJG:H HJG A6 HJG;68: 9:H H:B>8DC9J8I:JGH CHJ>I: 8:II: I:8=CDAD: 6 TIT TA>HT: 96CH A6 ;67G>86I>DC 9:H 8>G8J>IH

circuits sont réalisés en technologie couches épaisses au sein du LEST sur le site de l’ENST Bretagne par Bernard Della, Pascal Coant et Guy Chuiton. La méthode de réalisation, dite sérigravure, est constituée d’une sérigraphie suivie d’une photolithographie. Les différentes étapes de ce process de réalisation sont ici succinctement décrites mais peuvent être retrouvées de façon plus détaillée en Annexe. Une pâte d’or de 4 µm est tout d’abord déposée à la raclette sur l’hétérostructure ferroélectrique/diélectrique

chips en anglais. La même logique aboutit aux puces électroniques, les chips. En électronique, en effet, les physiciens retirent de la matière : ils prennent une plaque de silicium puis, au moyen de techniques appelées etching (gravure par photolithographie optique), ils exposent une résine sensible à la lumière (photoresist) et forment une sorte de cliché sur le silicium. Ensuite, à l’aide d’un acide, ils retirent la partie de la résine qui s’est trouvée exposée à la lumière. Ils reproduisent

bonne répartition (uniformité) du flux lumineux entre les branches. Cette technologie est utilisée pour les petits facteurs de division (1 vers 2, 1 vers 4, voire 1 vers 8), PLC : cette technologie repose sur la création de guides d’ondes par photolithographie (procédé similaire à celui utilisé pour la création de circuit intégrés). Elle permet d’obtenir des composants avec une meilleure uniformité entre les branches et dans un tout petit volume. Elle est utilisée pour des coupleurs à partir de 1

matériaux faisant ou pouvant faire l’objet de traitement super-hydrophobe sont les textiles (traitement déperlant), les vitrages (autonettoyant), les revêtements de façades, etc. 4 En électronique, la lithogravure (on devrait plutôt parler de photolithographie) est une technique per- b. Sur le schéma b, l’espacement des plots est tel que l’enveloppe de la goutte d’eau se déforme et épouse la forme des plots. La surface du matériau n’est donc pas protégée du contact avec l’eau ; cette surface n’est

silicium de type P. Leur fabrication consiste donc à implanter de façon plus ou moins complexe ces différentes zones à des endroits très précis. Cette fabrication met en œuvre un procédé particulier appelé microlithographie optique ou encore photolithographie qui permet de transférer l’image d’une plaque permanente appelée le masque sur une rondelle de semi-conducteur appelée wafer. Le masque est usuellement une plaquette de quartz sur laquelle ont été dessinés grâce à un logiciel de dessin assisté

l’activité suppose un investissement dans un « objet-intermédiaire » plus « lourd » comme par exemple un prototype. Le texte de Behkhy (2003a) s’appuie sur un important travail ethnographique dans une entreprise qui fabrique des machines de photolithographie pour la fabrication de semi-conducteurs. Il étudie les activités de traduction d’un monde professionnel à un autre. Il montre que le rôle des techniciens est de circuler entre le « monde » de la conception, qui se matérialise par un plan dessiné

dans un circuit de signatures (directeur de la division TEMEX DME, directeur R&D et service financier), par l’intermédiaire du Project Office. Pendant la phase de conception et de développement, les designers mettent au point un masque de « photolithographie »257 du produit, qui va être l’image du produit. Une fois le masque du produit défini, le chef de projet organise une revue critique du design (CDR), qui consiste à regarder comment le développement du design du produit s’est déroulé et si